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鑫藍(lán)環(huán)保-半導(dǎo)體廢氣處理-沸石轉(zhuǎn)輪+催化燃燒

文章出處:鑫藍(lán)環(huán)保鑫藍(lán)動(dòng)態(tài)網(wǎng)責(zé)任編輯:蔡作者:蔡人氣:-發(fā)表時(shí)間:2023-03-24 00:00:00【

 新材料行業(yè)半導(dǎo)體廢氣處理的方法。半導(dǎo)體行業(yè)與傳統(tǒng)材料相比,新材料產(chǎn)業(yè)具有技術(shù)高度密集,研究與開(kāi)發(fā)成本高,產(chǎn)品的附加值高,生產(chǎn)與市場(chǎng)的強(qiáng),應(yīng)用范圍廣,發(fā)展前景好。

  

一、半導(dǎo)體制造工藝過(guò)程中揮發(fā)各種有機(jī)廢氣,廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。這些廢氣排放主要可以分為四類:酸堿氣體、有機(jī)廢氣。

  1、酸堿廢氣主要來(lái)自擴(kuò)散、CVD、CMP及刻蝕等工序,這些工序使用酸堿清洗液對(duì)晶片進(jìn)行清洗。目前,在半導(dǎo)體制造工藝中使用普遍的清洗溶劑為過(guò)氧化氫和硫酸的混合劑。

  2、堿性氣體為氨氣。

  3、有機(jī)廢氣主要來(lái)源于光刻、顯影、刻蝕及擴(kuò)散等工序,在這些工序中要用有機(jī)溶液對(duì)晶片表面進(jìn)行清洗,其揮發(fā)產(chǎn)生的廢氣是有機(jī)廢氣的來(lái)源之一:同時(shí),在光刻、刻蝕等過(guò)程中使用的光阻劑中含有易揮發(fā)的有機(jī)溶劑,如醋酸丁酯等,在晶片處理過(guò)程中也要揮發(fā)到大氣中。

 二、半導(dǎo)體行業(yè)有機(jī)廢氣處理方法:

半導(dǎo)體工藝過(guò)程中有機(jī)廢氣具有排放風(fēng)量大、濃度低和成分復(fù)雜的特點(diǎn),使用其他的處理技術(shù)難以達(dá)到滿意的處理效果。一些半導(dǎo)體企業(yè)已采用沸石轉(zhuǎn)輪+催化燃燒技術(shù)。

沸石轉(zhuǎn)輪+催化燃燒VOCs處理設(shè)備,是將吸附濃縮單元和熱氧化單元有機(jī)地結(jié)合起來(lái)的一種方法,主要針對(duì)大風(fēng)量、低濃度的有機(jī)廢氣,經(jīng)吸附凈化并脫附后轉(zhuǎn)換成小風(fēng)量、高濃度的有機(jī)廢氣,對(duì)其進(jìn)行焚燒處理,并將有機(jī)物燃燒釋放的熱量有效利用。

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